Sản phẩm CP-8000+
CP-8000+ là thiết bị sử dụng chùm ion Argon để khắc bề mặt cắt mẫu, không gây biến dạng vật lý như hư hỏng cấu trúc, đồng thời không cần quy trình hóa học, nhờ vậy có thể xử lý bề mặt cắt sạch sẽ mà không cần công đoạn phức tạp.
Thiết bị hỗ trợ gia công diện tích rộng từ vài chục ㎛ đến cấp mm, rất thuận lợi cho phân tích mặt cắt mẫu.
Ứng dụng & đặc tính chính:
-
Tốc độ khắc cao 700㎛/giờ (với Si, 8kV)
-
Chức năng lưu/gọi lại recipe thường dùng
-
Tự động chạy recipe step-by-step
-
Dễ dàng nạp mẫu nhờ jig điều chỉnh chiều cao và smart sample holder
-
Quan sát trực tiếp tình trạng ion beam & quá trình khắc qua camera buồng
-
Màn hình GUI trực quan, cảm ứng dễ sử dụng
-
Chức năng tự động On/Off ion beam để giảm thiểu hư hại nhiệt
-
Căn chỉnh ion beam – mẫu nhanh chóng với kính hiển vi số
-
Trang bị sẵn bơm màng diaphragm không dầu, chống rung, chống ồn
-
Hỗ trợ flat milling để khắc phẳng diện tích rộng
PRINCIPLES OF CROSS CECTION POLISHER

Khi điện áp được áp vào ion gun và khí Argon được nạp vào, plasma được tạo ra. Dưới tác động của điện áp gia tốc, chùm ion sẽ bắn vào mẫu, bắt đầu quá trình khắc (etching).
Mẫu được đặt phía sau mặt nạ kim loại (specimen mask), khi chùm ion chiếu đồng thời lên cả mặt nạ và mẫu, hiệu ứng che chắn (shielding effect) của mặt nạ sẽ giúp giảm thiểu hư hại bề mặt do ion beam, từ đó thu được kết quả khắc mặt cắt sạch và chính xác.

CP-8000+ có khả năng gia công bề mặt phẳng nhờ holder chuyên dụng.
Khi mẫu được gắn vào holder này và sử dụng chức năng flat milling, chùm ion sẽ khắc bề mặt mẫu trên diện tích vài mm² dựa vào trục quay trung tâm.
Tốc độ, diện tích và độ sâu khắc sẽ thay đổi theo góc tới của chùm ion trên bề mặt mẫu. Do đó, việc điều chỉnh góc và xoay bàn giữ mẫu sẽ giúp đạt được bề mặt khắc đồng đều.
Chức năng này cho phép chiếu ion trên diện tích rộng, khắc lớp bề mặt mẫu, rất hữu ích cho tiền xử lý bề mặt diện tích lớn.
| SPECIFICATIONS | |
| Accelerating voltage | 2 to 8kV |
| Milling rate | 700㎛/h (at 8kV on Si wafer) |
| Sample stage swing angle | ±35° |
| Maximum sample size | 20(W) × 10(L) × 5.5(T)mm
16(W) × 10(L) × 9.5(T)mm |
| Specimen movement range | X axis movement: ±3.5mm / Y axis movement: ±2mm |
| Flat milling stage tilt angle range | 40° to 80° |
| Sample size for flat milling | Ø30 × 11.4(H)mm |
| Operation | 7inch touch panel |
| Digital Microscope for sample positioning | Mag. x5, x10, x20, x40 |
| Chamber camera for monitoring | Mag. x5, x10, x20, x40
Brightness adjustable in 4 steps Ion beam observation mode (LED Off) |
| Gas for Ion | Argon gas (99.999%) |
| Gas pressure | 0.03 MPa (4.4psi) |
| Gas flow control | Mass Flow Control |
| Vacuum systems | Turbo pump, Diaphragm pump |
| Dimension | 607(W) × 472(D) × 277.5(430.5)(H) mm |
| Weight | Main system 36kg / Diaphragm pump 6.5kg |
| Features | Auto Beam On/Off mode
Step by step mode |
Ion Milling Image




Đánh giá
Chưa có đánh giá nào.